【摘要】 一种全息光刻系统, 属于应用激光全息技术对微 细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束准直 后, 全息记录时光束经分束器后的两个光路产生的参考光束和 物光束在涂胶基片的光刻胶面处产生干涉条纹, 从而制得全息 掩模; 全息再现时, 光束经光路从共轭方向入射, 通过直角棱镜经 全息掩模衍射产生的光信号到达涂胶基片的胶面, 从而完成全 部全息光刻曝光。具有易实现大视场高分辨率光刻曝光等优 点。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209四川省成都市双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN98228987.1 【申请日】1998-06-09 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2351773Y 【公开公告日】1999-12-01 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2351773Y 【授权公告日】1999-12-01 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G03H1/00 【发明人】冯伯儒; 张锦; 侯德胜; 陈芬; 王永茹 【主权项内容】1．一种全息光刻系统，包括有激光器、光掩模以及涂有光刻胶 的基片，其特征在于：由激光器(1)、扩束准直器(2)、分束器(3)以及 减光板(10)、可转动的全反射镜(4)、直角棱镜(6)、涂胶基片(7) (14)以及减光板(11)、光程调节装置(9)和光掩模(8)组成； a．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经分束器(3)分成 两束光：一束光经减光板(10)和可转动的全反射镜(4)到达并通过 直角棱镜(6)照射到涂胶基片(7)上，为全息记录的参考光束；另一 束光由减光板(11)和光程调节装置(9)从下向上照明光掩模(8)，经 光掩模(8)产生衍射，照射到涂胶基片(7)的胶面上，为全息记录的 物光束；参考光束与物光束在涂胶基片(7)的光刻胶胶面处产生干 涉，得到全息掩模(13)； b．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经全反射镜(12)、 减光板(10)、可转动全反射镜(4)和固定全反射镜(5)从共轭方向入 射到达并通过直角棱镜(6)照射到全息掩模(13)上，经全息掩模 (13)衍射产生的光信号到达涂胶基片(14)的胶面。 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省成都市双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【被引证次数】9.0 【被自引次数】2.0 【被他引次数】7.0 【家族被引证次数】9.0

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