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双极高速功率开关晶体管发射区结构专利

时间:2026-05-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 一种高速双极功率开关晶体管发射区结构。从剖 面结构上看, 这种发射区由轻掺杂的中心区域和分布在两侧的 高掺杂的周边区域构成。该结构能够加速晶体管的关断过程, 有效地改善双极功率晶体管的开关时间和开关损耗, 提高晶体 管关断时的热电稳定性, 使之能够在更高的频率下正常且安全 地工作。 【专利类型】实用新型 【申请人】北京工业大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】100022北京市朝阳区平乐园100号亢宝位转 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98203022.3 【申请日】1998-04-03 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2323467Y 【公开公告日】1999-06-09 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2323467Y 【授权公告日】1999-06-09 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】H01L29/36; H01L29/72; H01L29/02; H01L29/66 【发明人】亢宝位; 吴郁 【主权项内容】1.一种双极高速功率开关晶体管发射区结构,其特征在于,从剖面结构上看,发射 区由轻掺杂的中心区域(1)和分布在两侧的高掺杂的周边区域(2)构成。 【当前权利人】北京工业大学 【当前专利权人地址】北京市朝阳区平乐园100号亢宝位转 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12110000400687411U 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0

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