【摘要】 本发明提供了一种氮化硅膜沉积设备和沉积方法，该氮化硅膜沉积设备包括两个或两个以上的反应腔，以及连接在反应腔之间的缓冲腔，反应腔与缓冲腔之间形成真空连接。该氮化硅膜沉积方法包括以下步骤：将硅片基体送入上述的氮化硅膜沉积设备，使得硅片基体连续通过反应腔以及反应腔之间的缓冲腔，在硅片基体上沉积多层氮化硅膜。通过在多个反应腔内分步生成多层厚度和折射率不同的氮化硅膜，能够在保证钝化效果的前提下进一步降低硅片表面光反射率；多个反应腔互不干扰，能够保证沉积过程稳定运行；多个反应腔之间采用缓冲腔连接，能够保证整个沉积过程在真空条件下进行，从而避免了与外部空气接触引入杂质。 【专利类型】发明授权 【申请人】英利能源(中国)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】071051 河北省保定市朝阳北大街3399号 【申请人地区】中国 【申请人城市】保定市 【申请人区县】竞秀区 【申请号】CN201210327690.2 【申请日】2012-09-06 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102817011B 【公开公告日】2014-12-31 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102817011B 【授权公告日】2014-12-31 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C16/44; C23C16/34; H01L31/18 【发明人】解占壹; 刘海金; 刘伟 【主权项内容】一种氮化硅膜沉积设备，其特征在于，包括两个或两个以上的反应腔，以及连接在所述反应腔之间的缓冲腔，所述反应腔与所述缓冲腔之间形成真空连接；所述反应腔与所述缓冲腔之间安装有连接法兰，所述连接法兰上设置有密封圈；所述沉积设备还包括用于在反应腔和缓冲腔内传输硅片基体的载体，所述载体为石墨舟，且所述反应腔或所述缓冲腔内两侧都装有相对称的滚轮；所述石墨舟两侧架于所述滚轮上，并通过传动轴与电机驱动连接。。 【当前权利人】英利能源(中国)有限公司 【当前专利权人地址】河北省保定市朝阳北大街3399号 【专利权人类型】其他有限责任公司 【统一社会信用代码】91130600667708103C 【引证次数】5.0 【自引次数】1.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】5

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