【摘要】 本发明公开了一种高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，是以含铜蚀刻废液为原料，经过净化除杂工艺除去镍杂质，使最终生成的电镀级硫酸铜中的镍离子含量不大于10ppm。其特征在于包括以下步骤：(1)含铜蚀刻废液的过滤去除机械杂质；(2)净化除铅砷；(3)调pH除铁；(4)除钙镁；(5)酸碱中和生成铜盐沉淀；(6)铜盐沉淀洗涤纯化；(7)浓硫酸酸化；(8)冷却结晶。本发明工艺具有生产成本低，工艺简单，生产出的硫酸铜纯度高，镍含量低等优点。 【专利类型】发明授权 【申请人】昆山市千灯三废净化有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215341 江苏省苏州市昆山市千灯镇何家浜路9号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】昆山市 【申请号】CN201210235287.7 【申请日】2012-07-09 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102730745B 【公开公告日】2014-01-22 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102730745B 【授权公告日】2014-01-22 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C01G3/10; C23F1/46 【发明人】庄永; 薛克艳; 邹鸿图; 金梁云; 姚明辉 【主权项内容】1.高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于该工艺包括以下步骤：(1)将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤，除去机械杂质；(2)分别对酸性和碱性蚀刻废液进行除铅砷工艺，其中采用氯化镁除砷，用硫酸钠和氯化钡除铅；(3)搅拌下，用碱性溶液调节酸性蚀刻废液的pH至2.0～3.0；所述碱性溶液为Na2CO3或 NaOH 溶液；(4)对酸性蚀刻废液进行除钙、镁工艺；(5)对碱性蚀刻废液进行除钙、镁工艺；(6)将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降，过滤；(7)预先在反应釜中加入NH4Cl溶液或母液做缓冲溶液，中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液pH值控制在3.5～4.3，采用并流加料的方式，反应温度控制60～75℃，生成中间体，除镍；(8)搅拌陈化，过滤；(9)洗涤；(10)酸化；(11)冷却结晶。 该数据由<>整理 【当前权利人】昆山市千灯三废净化有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市昆山市千灯镇何家浜路9号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320583762827004C 【家族被引证次数】3

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