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三光束干涉光刻方法和系统专利

时间:2026-09-29    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种三光束干涉光刻方法和系统,其方法包括:激光束被位相光栅分光成三路光束后在加工工件表面实现N次干涉曝光,相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N,其中,N为大于等于3的奇数,dI为曝光后的光强分布的周期,所述三路光束分别为复振幅相同的第一光束和第二光束以及0级光束。通过本发明的三光束干涉光刻方法,可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构,加工效率高,而且所采用的元器件容易获得,成本低。另外,采用三光束干涉曝光,对光栅和系统没有消零级的要求,易于制备。 : 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210229255.6 【申请日】2012-07-04 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102736451B 【公开公告日】2014-02-26 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102736451B 【授权公告日】2014-02-26 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】浦东林; 胡进 【主权项内容】一种三光束干涉光刻方法,其特征在于,激光束被位相光栅分光成三路光束后在加工工件表面实现N次干涉曝光,相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N,其中,N为大于等于3的奇数,dI为曝光后的光强分布的周期,所述三路光束分别为复振幅相同的第一光束和第二光束以及0级光束, 楔形位相板位于所述第一光束或第二光束的光路上,楔形位相板控制相邻两次曝光位置之间的错位值。 : 【当前权利人】苏州大学 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【统一社会信用代码】123200004660073435 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】4

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