【摘要】 本发明涉及印刷元器件技术领域，这种消除印刷器件(22)中卫星点(23)的方法，包括如下步骤：将通过非接触式印刷后带有卫星点(23)的器件(22)置于腐蚀溶液中，腐蚀1~50秒；再通过纯净水漂洗后吹干，所述器件(22)中的卫星点(23)得到消除。对于金属材料形成印刷器件(22)，需要先进行氧化处理，再进行其后续他步骤。由于印刷器件(22)中卫星点(23)的厚度远小于印刷器件(22)的主体，这种整体清洗方法可以有效消除印刷图案中的卫星点(23)而保留印刷器件(22)主体，从而用较低的成本提高元器件的质量。。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210163747.X 【申请日】2012-05-24 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102673116B 【公开公告日】2014-09-03 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102673116B 【授权公告日】2014-09-03 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】B41F23/00 【发明人】林剑; 陈征; 崔铮 【主权项内容】1.一种消除印刷器件中卫星点的方法，其特征在于，包括如下步骤：将通过非接触式印刷后带有卫星点(23)的器件(22)置于腐蚀溶液中进行腐蚀反应；再经过漂洗吹干，所述器件(22)中的卫星点(23)得到消除；所述腐蚀溶液是无机酸或有机酸中的一种或多种；所述腐蚀反应时间为1~50秒；所述器件(22)以金属-有机复合材料、金属氧化物中的一种或多种为主要成分；所述腐蚀溶液是浓度为0.01~1 mol/L的乙酸水溶液或者浓度为0.01~1 mol/L盐酸。 【当前权利人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 【统一社会信用代码】12100000717826387T 【引证次数】6.0 【他引次数】6.0 【家族引证次数】7.0

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