【摘要】本发明提供连续化无溶剂制备高纯度AKD的设备及方法。采用的设备包括一种使原料进行连续化混合反应的反应器,主要制备工艺为:第一,叔胺在反应器起始端连续加入,酰氯分成三至十路连续加入;第二,在反应器工作状态下,主电机带动内筒相对外筒转动
【摘要】 本发明揭示了一种线缆连接器组件,包括:绝缘本体、端子模组以及线缆;所述绝缘本体包括基部以及自基部向前延伸形成用以与对接连接器配合的对接部,所述基部设有前后贯穿的安装孔;所述端子模组包括端子座体以及镶埋成型于所述端子座体内的并排排列的若干端子,所述端子包括延伸超出端子座体的接触部、镶埋在端子座体内的固持部以及暴露在端子座体表面的焊接部,所述端子座体包括若干定位孔;所述线缆包括若干芯线用以与相应的端子的焊接部焊接,所述端子模组通过安装孔自后向前插入安装到绝缘本体上。相较于现有技术,本发明线缆连接器组件的端子模组与绝缘本体进行配合及限位,端子安装容易,且限位较佳。 【专利类型】发明申请 【申请人】凡甲电子(苏州)有限公司; 凡甲科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215425 江苏省苏州市太仓市沙溪镇长富工业园 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】太仓市 【申请号】CN201210201824.6 【申请日】2012-06-19 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103515749A 【公开公告日】2014-01-15 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01R13/40; H01R13/46 【发明人】游万益; 戴宏骐; 洪永炽 【主权项内容】一种线缆连接器组件,包括:绝缘本体、端子模组以及线缆;所述绝缘本体包括基部以及自基部向前延伸形成用以与对接连接器配合的对接部,所述基部设有前后贯穿的安装孔;所述端子模组包括端子座体以及镶埋成型于所述端子座体内的并排排列的若干端子,所述端子包括延伸超出端子座体的接触部、镶埋在端子座体内的固持部以及暴露在端子座体表面的焊接部,所述端子座体包括若干定位孔;所述线缆包括若干芯线用以与相应的端子的焊接部焊接,其特征在于:所述端子模组通过安装孔自后向前插入安装到绝缘本体上。。 【当前权利人】凡甲电子(苏州)有限公司; 凡甲科技股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市太仓市沙溪镇长富工业园; 中国台湾新北市中和区中山路三段102号3楼 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320585745550031E 【引证次数】7.0 【被引证次数】1 【自引次数】1.0 【他引次数】6.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】23.0 【家族被引证次数】12
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