【摘要】本发明公开了一种反应釜,包括反应釜体、设置在反应釜体内的搅拌装置、设置在反应釜体顶部的进料口和设置在反应釜体底部的出料口,在所述反应釜体上方设置有电机,所述电机带动搅拌装置转动,所述搅拌装置伸入反应釜体内,并在其端部和中间位置均设有
【摘要】 本发明公开了一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下一层定位圈的顶部设有与上一层定位圈的凸楞或凹槽对应的凹槽和凸楞,上、下定位圈的外圈上设有位置对应的定位凸台。上、下层定位圈通过相互之间的凸楞和凹槽配合,能有效防止平面滑动,提高使用稳定性,同时配合其外圈的定位凸台在叠加时定位找准,防止叠加在不同位置时产生间隙,影响高度调节,确保使用安全性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】杨进 【申请人类型】个人 【申请人地址】225324 江苏省泰州市高港区许庄三星西路53号 【申请人地区】中国 【申请人城市】泰州市 【申请人区县】高港区 【申请号】CN201210384104.8 【申请日】2012-10-11 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103727116A 【公开公告日】2014-04-16 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】F16B43/00 【发明人】杨进 【主权项内容】一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下一层定位圈的顶部设有与上一层定位圈的凸楞或凹槽对应的凹槽和凸楞,上、下定位圈的外圈上设有位置对应的定位凸台。 【当前权利人】杨进 【当前专利权人地址】江苏省泰州市高港区许庄三星西路53号 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1
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