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多层复合膜中悬空台阶的消除方法专利

时间:2026-09-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提出了一种多层复合膜中低压氮化硅层的悬空台阶的消除方法,包括:使用四氟化碳气体作为腐蚀气体在电场中分解与复合从而生成激发态氟基,以及通过使激发态氟基与所述低压氮化硅层反应生成气态的四氟化硅和氮气来腐蚀所述低压氮化硅层的悬空台阶。通过使用本发明,可以有效并且可靠地消除高反压用多层复合膜腐蚀形成的悬空台阶,而且腐蚀后的图形完好,可以大幅度提升产品的成品率,提高产品的可靠性。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润华晶微电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区信息产业科技园C座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210311915.5 【申请日】2012-08-29 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103632952A 【公开公告日】2014-03-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103632952B 【授权公告日】2016-12-21 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】H01L21/3105 【发明人】宋矿宝 【主权项内容】一种多层复合膜中低压氮化硅层的悬空台阶的消除方法,包括:使用四氟化碳气体作为腐蚀气体在电场中分解与复合从而生成激发态氟基,以及通过使激发态氟基与所述低压氮化硅层反应生成气态的四氟化硅和氮气来腐蚀所述低压氮化硅层的悬空台阶。 【当前权利人】无锡华润华晶微电子有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区信息产业科技园C座2楼 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台投资、非独资) 【统一社会信用代码】913202147140943367 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】3.0

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