【摘要】 本发明提供一种在线监测离子损伤的方法，属于半导体制造技术领域。该方法包括以下步骤：在晶圆上生成介质层以制备形成测试晶圆；所述测试晶圆与生产晶圆在基本相同工艺条件下完成高能离子工艺步骤；测量所述测试晶圆的界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数；基于所述界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数判断所述测试晶圆的离子损伤程度，以反映所述生产晶圆在所述高能离子工艺步骤形成的离子损伤。该方法能实现离子损伤的在线监测，效率高、成本低，有利于提高高能离子工艺的产品性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 中国无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201210195969.X 【申请日】2012-06-14 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103489806A 【公开公告日】2014-01-01 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103489806B 【授权公告日】2016-08-03 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】H01L21/66 【发明人】李晶 【主权项内容】一种在线监测离子损伤的方法，其特征在于，包括以下步骤：在晶圆上生成介质层以制备形成测试晶圆；所述测试晶圆与生产晶圆在基本相同工艺条件下完成高能离子工艺步骤；测量所述测试晶圆的界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数；以及基于所述界面缺陷、和残留表面电荷量和/或表面电压参数判断所述测试晶圆的离子损伤程度，以反映所述生产晶圆在所述高能离子工艺步骤形成的离子损伤。 【当前权利人】无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214739444443B 【引证次数】4.0 【被引证次数】6 【他引次数】4.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】6

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