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等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法专利

时间:2026-08-12    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明涉及一种等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法,其特征在于采用合金材料为胚体,经等离子体磁控溅射法表面处理,达到了较好的触头表面综合性能。本发明采用等离子体磁控溅射技术,作用于电器触头胚体表面,通过对胚体表面抛光后在酒精溶液中用超声波清洗,选用钛扳作为阴扳(靶),在沉积前,预溅射10min以清洗靶面,再以高频电压80V清洗基片15min,Ar压强为1Pa,当压强比N2/Ar=3.2%,沉积率约为5.5um/h。该方法构思新颖,设计合理,合金胚体表面产生TiN薄膜,TiN薄膜显微硬度达18500N/mm2,划刻临界负载达60N,溅射TiN薄膜镀层的电阻率仅为68×10-6Ω·cm。实践证明,制成成品性能好,具有较大的推广应用价值。 【专利类型】发明申请 【申请人】秦旷宇 【申请人类型】个人 【申请人地址】226100 江苏省海门市海门镇长江新村106幢302室 【申请人地区】中国 【申请人城市】南通市 【申请人区县】海门区 【申请号】CN201010121581.6 【申请日】2010-03-11 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102191471A 【公开公告日】2011-09-21 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】C23C14/35; C23C14/06; C23C14/02 【发明人】秦旷宇 【主权项内容】一种等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法,其特征在于采用合金材料为胚体,经等离子体磁控溅射法表面处理,其特征在于:所述等离子体磁控溅射法指采用胚体表面作为基面,通过抛光后在酒精溶液中用超声波清洗,磁控溅射时选用钛扳作为阴扳(靶)。 【当前权利人】秦旷宇 【当前专利权人地址】江苏省海门市海门镇长江新村106幢302室 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3

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