【摘要】 本发明提供了一种具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液，按照重量百分比包括下列组分：二氧化硅磨料25-40wt%，酸式盐0.1-0.6wt%，pH调节剂0.1-3.0wt%，碱性螯合剂0.01-0.8wt%，余量为水，本发明具有如下技术效果：1)选用科学合理的缓冲体系，不盲目提高抛光液的pH，抛光过程中PH值变化幅度小，抛光后，硅片表面质量较好，没有表面划伤以及其他缺陷；2)在配制抛光液时，增加自主研发的螯合剂后可增加抛光液的抛光速率并提高了抛光液的缓冲能力，使得循环使用过程中PH值仅下降0.2-0.25；3)抛光液配制工艺简单，易操作，适于工业生产；可降低抛光液的使用成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】江苏海迅实业集团股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】226600 江苏省南通市海安县开发区东海大道(东)18号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南通市 【申请人区县】海安市 【申请号】CN201010576414.0 【申请日】2010-12-07 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102031064A 【公开公告日】2011-04-27 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】C09G1/02 【发明人】仲跻和; 李薇薇 【主权项内容】一种具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液，其特征在于，按照重量百分比包括下列组分：二氧化硅磨料25‑40wt%，酸式盐0.1‑0.6wt%，pH调节剂0.1‑3.0wt%，碱性螯合剂0.01‑0.8wt%，余量为水，其中，所说的二氧化硅磨料采用粒径60‑80nm，浓度为40‑50wt%的二氧化硅溶胶；所说的酸式盐为有机酸式盐或无机酸式盐；所说的pH调节剂为有机胺或无机碱；所说的碱性螯合剂按照重量百分比包括下列组分：四甲基氢氧化铵15wt％，纯水10wt%，羟乙基乙二胺48wt％，二乙烯三胺10wt％，乙醇胺15wt％，EDTA‑2Na 2wt％。 【当前权利人】南通海迅天恒纳米科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省南通市海安县经济开发区精细化工园11号 【专利权人类型】股份有限公司(非上市、自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320600138578403Y 【被引证次数】12 【被自引次数】1.0 【被他引次数】11.0 【家族被引证次数】12

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