【摘要】 一种二氧化硅中空粒子的两步法制备方法，将氨水溶液加热到25～75℃，先将一部分二氧化硅前驱体缓慢滴加到氨水溶液中，反应5-10分钟后，加入剩余部分的二氧化硅前驱体，保持温度不变，搅拌下，反应数小时，经离心洗涤，真空干燥，获得二氧化硅中空粒子；体系中，各组分之间的重量比例范围为：水∶氨水(25％)＝15～150∶1；水∶二氧化硅前驱体＝10～30∶1；先滴加的一部分二氧化硅前驱体占其总量的2～20％；反应温度为25～75℃。 【专利类型】发明授权 【申请人】南京大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】210093 江苏省南京市汉口路22号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南京市 【申请人区县】鼓楼区 【申请号】CN201010175242.6 【申请日】2010-05-18 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101823719B 【公开公告日】2011-08-31 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN101823719B 【授权公告日】2011-08-31 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】C01B33/12 【发明人】王昭群; 李云兴; 顾昊; 薛奇 【主权项内容】1.二氧化硅中空粒子的两步法制备方法，其特征是：将氨水溶液加热到25～75℃，先将一部分二氧化硅前驱体缓慢滴加到氨水溶液中，30-50分钟滴完，反应5-10分钟后，加入剩余部分的二氧化硅前驱体，保持温度不变，搅拌下，反应5-7小时，经离心洗涤，真空干燥，获得二氧化硅中空粒子；体系中，各组分之间的重量比例范围为：水∶浓度为25％的氨水＝15～150∶1；水∶二氧化硅前驱体＝10～30∶1；先滴加的一部分二氧化硅前驱体占其总量的2～20％；反应温度为25～75℃；二氧化硅前驱体是正硅酸乙酯或正硅酸甲酯。 1.二氧化硅中空粒子的两步法制备方法，其特征是：将氨水溶液加热到25～75℃，先将一部分二氧化硅前驱体缓慢滴加到氨水溶液中，30-50分钟滴完，反应5-10分钟后，加入剩余部分的二氧化硅前驱体，保持温度不变，搅拌下，反应5-7小时，经离心洗涤，真空干燥，获得二氧化硅中空粒子；体系中，各组分之间的重量比例范围为：水∶浓度为25％的氨水＝15～150∶1；水∶二氧化硅前驱体＝10～30∶1；先滴加的一部分二氧化硅前驱体占其总量的2～20％；反应温度为25～75℃；二氧化硅前驱体是正硅酸乙酯或正硅酸甲酯。 【当前权利人】南京大学 【当前专利权人地址】江苏省南京市汉口路22号 【统一社会信用代码】12100000466007458M 【家族引证次数】4.0

未经允许不得转载：http://www.zhongzhencnc.com/1785763594.html