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一种超晶格多层膜及其制备方法专利

时间:2026-08-02    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种超晶格多层膜及其制备方法,包括纳米晶体相层、非晶过渡层和非晶相层,非晶过渡层上交替沉积纳米晶体相层和非晶相层;包括以下步骤:在真空室中的一侧设有磁控溅射源,另一侧设有电弧源;将抛光、清洗后的工件放入真空室中,并设定工艺参数;往真空室中通入Ar气体,加偏压对工件表面进行Ar离子轰击清洗,减少偏压;启动电弧源和磁控溅射源,沉积一定时间,生成Ti/WC非晶过渡层;往真空室中加充N2气体,工作一定时间,沉积生成TiN纳米晶体相层和WC非晶体相层。所得产品致密均匀,提高结合强度。实现了Ti/N基膜的超硬效应和高韧性,超晶格多层结构中的非晶WC层对其耐腐蚀性和抗氧化性能亦有相当大的改善。 【专利类型】发明申请 【申请人】南京斯尤普涂层设备有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】210000 江苏省南京市高淳县古柏镇双高路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南京市 【申请人区县】高淳区 【申请号】CN201010252706.9 【申请日】2010-08-13 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101941309A 【公开公告日】2011-01-12 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】B32B9/00; B82B1/00; B82B3/00; C23C14/35; C23C14/32; C23C14/06; C23C14/14 【发明人】张世宏; 黄仲福; 方炜; 赵小燕 【主权项内容】一种超晶格多层膜,其特征在于:包括纳米晶体相层、非晶过渡层和非晶相层,其中:非晶过渡层上交替沉积纳米晶体相层和非晶相层;所述的非晶过渡层是Ti/WC复合物;所述的纳米晶体相层是电弧离子镀的TiN层;所述的非晶体相层是磁控溅射镀的WC层;所述的纳米晶体相层和非晶相层的调制周期是3~10nm。 【当前权利人】马鞍山多晶金属材料科技有限公司 【当前专利权人地址】安徽省马鞍山市经济开发区梅山路399号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320118552090112A 【引证次数】4.0 【被引证次数】5 【他引次数】4.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】5

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