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一种具有复合金属阻挡层的氮化镓器件多层欧姆接触系统专利

时间:2026-08-01    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明是一种具有复合金属阻挡层的氮化镓器件多层欧姆接触系统,其特征是铝镓氮(AlGaN)/氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)源电极16和漏电极17所采用的欧姆接触系统为Ti/Al/Ni/Mo/Au。优点:它可同时满足高性能AlGaN/GaN HEMT所需的具有小的欧姆接触电阻率、良好的表面平整度和高可靠度。实施例1中在N2等惰性气体保护下通过高温热退火后才能与AlGaN层13形成良好的欧姆接触,实施例2通过在Ti金属层29可以解决Mo金属层28与Au金属层30黏附性较差的问题,从而满足某些场合下对于欧姆接触最上层金属Au厚度要求较厚的情况。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国电子科技集团公司第五十五研究所 【申请人类型】企业 【申请人地址】210016 江苏省南京市中山东路524号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南京市 【申请人区县】玄武区 【申请号】CN201010600790.9 【申请日】2010-12-21 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102148154A 【公开公告日】2011-08-10 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN102148154B 【授权公告日】2012-10-10 【授权公告年份】2012.0 【发明人】任春江; 陈堂胜 【主权项内容】一种具有复合金属阻挡层的氮化镓器件多层欧姆接触系统,其特征是铝镓氮(AlGaN)/氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)源电极16和漏电极17所采用的欧姆接触系统为Ti/Al/Ni/Mo/Au。 【当前权利人】中国电子科技集团公司第五十五研究所 【当前专利权人地址】江苏省南京市中山东路524号 【被引证次数】5 【被自引次数】2.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】8

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