【摘要】本发明涉及一种空气净化器及其空气处理方法。空气净化器(1)包括空气净化单元(3)、升降单元(4)和控制单元(6)；升降单元(4)包括传动机构(9)和升降机构(5)，传动机构(9)接受控制单元(6)的指令，驱动升降机构(5)带动空气净
【摘要】 本发明涉及一种用于降低曝光时离焦几率的晶背清洁装置，包括：安装在传送交换单元的传感器，所述传送交换单元将晶片从光阻机传送至曝光机；与所述传感器相连的气阀；与所述气阀相连的具有出气管的气管，所述气管位于所述传送交换单元上，且与晶片传送方向平行设置，以使所述传感器监测到晶片位于传送交换单元上时发出指示打开所述气阀时，所述气管连接的出气管喷出气流吹掉所述晶片的晶背上的微粒。本发明在曝光前通过气体将晶背上的微粒吹掉，降低了曝光时的离焦几率，提高了产品合格率。 【专利类型】发明申请 【申请人】和舰科技(苏州)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201010002834.8 【申请日】2010-01-18 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102129954A 【公开公告日】2011-07-20 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN102129954B 【授权公告日】2012-12-12 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L21/00; B08B5/02 【发明人】刘涛; 程光中; 刘刚; 储著飞 【主权项内容】一种用于降低曝光时离焦几率的晶背清洁装置，其特征在于，包括：安装在传送交换单元的传感器，所述传送交换单元将晶片从光阻机传送至曝光机；与所述传感器相连的气阀；与所述气阀相连的具有出气管的气管，所述气管位于所述传送交换单元上，且与晶片传送方向平行设置，以使所述传感器监测到晶片位于传送交换单元上发出指示打开所述气阀时，所述气管连接的出气管喷出气流吹掉所述晶片的晶背上的微粒。 【当前权利人】和舰科技(苏州)有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【专利权人类型】有限责任公司(中外合资) 【统一社会信用代码】91320594732513557J 【家族引证次数】3.0
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