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一种控制抛光垫使用时数的方法和装置专利

时间:2026-07-02    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种控制抛光垫使用时数的方法和装置,该方法包括:步骤1:获取晶片加工机台上抛光垫的使用时数;步骤2:将所获取的使用时数与预定值进行比较,当所述使用时数大于所述预定值时,发出警告,否则,转至步骤1。本发明通过将抛光垫的使用时数与预定值进行比较,当使用时数大于预定值时,发出警告,以提醒工作人员更换抛光垫。因此,本发明不需要工作人员去查看机台端信息,而可以自动控制抛光垫的使用时数,从而能够有效的防止因抛光垫使用时数超过管制上限而导致的产品报废。 【专利类型】发明申请 【申请人】和舰科技(苏州)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201010002833.3 【申请日】2010-01-18 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102126174A 【公开公告日】2011-07-20 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】B24B29/02; H01L21/304 【发明人】翟剑; 刘毅; 陶克; 杨建忠 【主权项内容】一种控制抛光垫使用时数的方法,包括:步骤1:获取晶片加工机台上抛光垫使用时数;步骤2:将所获取的使用时数与预定值进行比较,当所述使用时数大于所述预定值时,发出警告,否则,转至步骤1。 【当前权利人】和舰科技(苏州)有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【专利权人类型】有限责任公司(中外合资) 【统一社会信用代码】91320594732513557J

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