【摘要】 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。 【专利类型】发明申请 【申请人】苏州苏大维格光电科技股份有限公司; 苏州大学 【申请人类型】企业,学校 【申请人地址】215026 江苏省苏州市工业园区钟南街478号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201010503788.X 【申请日】2010-10-12 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101976020A 【公开公告日】2011-02-16 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN101976020B 【授权公告日】2012-08-22 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G03F7/20; G03F7/207; G03F7/00 【发明人】浦东林; 胡进; 张月雨; 唐灵; 魏国军; 周小红; 陈林森 【主权项内容】一种光刻装置，用于在待刻物件表面形成微纳结构，包括光源、光学系统和自动调焦系统，其特征在于：该光学系统包括光阑、部分反射光学器件、成像透镜组和干涉光学头，其中所述成像透镜组包括第一透镜组和第二透镜组，所述光阑位于该第一透镜组的前焦面，所述待刻物件表面位于该第二透镜组的后焦面，所述干涉光学头包括分束器件和合束棱镜，以及与该成像透镜组共有的第二透镜组，该分束器件将该第二透镜组传出的光线分成多束光线，并经该合束棱镜汇聚后，在该待刻物件表面形成干涉图像；该自动调焦系统包括检测装置，控制装置及第一驱动装置，其中所述检测装置通过该部分反射光学器件，与该光阑共轭地位于该第一透镜组的前焦面，并由光路可逆关系，接收待刻物件表面的成像信息，所述控制装置连接该检测装置，并根据该检测装置接收到的成像信息，生成一调节信号，所述第一驱动装置接收上述调节信号，并驱动该干涉光学头在Z轴上运动。 【当前权利人】苏州苏大维格科技集团股份有限公司; 苏州大学 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区新昌路68号; 江苏省苏州市吴中区石湖西路188号 【专利权人类型】股份有限公司(上市); 【统一社会信用代码】913200007325123786; 123200004660073435 【引证次数】4.0 【被引证次数】13 【自引次数】1.0 【他引次数】3.0 【被自引次数】5.0 【被他引次数】8.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】13

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