【摘要】 本实用新型公开了卷绕式带状ITO导电薄膜的生产装置，基材在放料室，真空状态下经过红外加热器、离子源表面处理；进入溅射室，使用溅射靶及二氧化硅发放器在基材上溅射二氧化硅膜；在二氧化硅膜上溅射氧化铟锡膜；在放料室(2)和溅射室(3)内排布输送架(4)，输送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在输送架(4)的首尾端分别安装放料辊(10)和收料辊(11)，在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧依次安装红外加热器(17)、离子源(5)，在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧安装溅射靶(9)，溅射室(3)内位于溅射靶(9)的前方和中间分别安装二氧化硅发放器(8)、氧化铟锡发放器(12)。该方法及装置在基材上溅射镀层，连续化生产，增大产品幅宽和长度，扩大产品用途。 【专利类型】实用新型 【申请人】淮安富扬电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】223001 江苏省淮安市经济开发区富准路62号 【申请人地区】中国 【申请人城市】淮安市 【申请人区县】清江浦区 【申请号】CN201020257918.1 【申请日】2010-07-13 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201778108U 【公开公告日】2011-03-30 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201778108U 【授权公告日】2011-03-30 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】C23C14/56; C23C14/08; C23C14/34 【发明人】傅青炫; 陈先锋; 马尔松; 夏慎领 【主权项内容】卷绕式带状ITO导电薄膜的生产装置，其特征在于：在由隔板(1)间隔的放料室(2)和溅射室(3)内安装生产装置，生产装置包括输送架(4)、红外加热器(17)、离子源(5)、深冷捕集器(6、7)、二氧化硅发放器(8)、氧化铟锡发放器(12)和溅射靶(9)，在放料室(2)和溅射室(3)内排布连贯的输送架(4)，输送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在输送架(4)的首端安装放料辊(10)，在输送架(4)的尾端安装收料辊(11)，在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧呈平面矩形安装离子源(5)，在离子源(5)之前安装红外加热器(17)，在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶(9)，溅射室(3)内位于溅射靶(9)的前方和中间分别安装二氧化硅发放器(8)、氧化铟锡发放器(12)，放料室(2)、溅射室(3)内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(13、14)。 【当前权利人】淮安富扬电子材料有限公司 【当前专利权人地址】江苏省淮安市经济开发区富准路62号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】9132089168295963X2 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1

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