【摘要】采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法,属于高分子光致抗蚀材料的技术领域。本发明采用溶胶-凝胶法制得纳米二氧化硅溶胶,再用含双键的硅烷偶联剂为主要原料对其表面进行原位接枝改性,得到光敏纳米二氧化硅,并将其添加到紫外光固
【摘要】 本实用新型涉及纺织机械领域,尤其涉及一种针织圆机纱架。一种针织圆机纱架,所述针织圆机纱架围绕针织圆机圆周摆放。本实用新型具有结构简单、纱线不易缠绕、且易清洁的优点。 【专利类型】实用新型 【申请人】李国平 【申请人类型】个人 【申请人地址】214000 江苏省无锡市东亭华夏中路赛维拉假日花园69幢602室 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】锡山区 【申请号】CN201020265571.5 【申请日】2010-07-21 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201809572U 【公开公告日】2011-04-27 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201809572U 【授权公告日】2011-04-27 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】D04B15/40 【发明人】李国平 【主权项内容】一种针织圆机纱架,其特征在于:所述针织圆机纱架围绕针织圆机圆周摆放。 【当前权利人】李国平 【当前专利权人地址】江苏省无锡市东亭华夏中路赛维拉假日花园69幢602室
未经允许不得转载:http://www.zhongzhencnc.com/1782321955.html






