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熔丝结构的制作方法专利

时间:2026-06-21    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提供一种熔丝结构的制作方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底内形成熔丝结构;在所述半导体衬底上方形成介质层,所述介质层覆盖熔丝结构;对所述介质层进行至少两次刻蚀,使熔丝结构上方的介质层达到目标厚度。所述方法保证了刻蚀的精度,有效地控制了熔丝结构上方的介质层的厚度,同时保护焊盘,避免焊盘过刻蚀。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201010213639.X 【申请日】2010-06-24 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102299094A 【公开公告日】2011-12-28 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】H01L21/768; H01L23/525 【发明人】张明敏; 王乐; 匡金; 祝孔维 【主权项内容】一种熔丝结构的制作方法,其特征在于,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底内形成熔丝结构;在所述半导体衬底上方形成介质层,所述介质层覆盖熔丝结构;对所述介质层进行至少两次刻蚀,使熔丝结构上方的介质层达到目标厚度。 -官网 【当前权利人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号; 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资); 有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J; 91320214739444443B 【引证次数】3.0 【被引证次数】8 【他引次数】3.0 【被自引次数】3.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】8

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