【摘要】 本发明提供一种确定光刻机的最佳焦距的方法，包括如下步骤：提供具有测试标记的掩膜板，所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记；将所述测试标记转移到基底上；测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值；找出最小的套刻偏移量值，则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。本发明通过将测试标记设计为尖锐的不对称结构，仅需采用套刻测试设备在不同焦距下检测测试标记的套刻偏移量值，然后比较找出最小的焦距偏移量，就可确定光刻机的最佳焦距，步骤简单，可较大幅度提高光刻机的最佳焦距检测效率；而且本发明的测试标记采用了尖锐的不对称结构，光刻机对此比较灵敏，可更好地提高焦距测试结果的准确率。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201010170097.2 【申请日】2010-05-07 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102236262A 【公开公告日】2011-11-09 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】黄玮 【主权项内容】一种确定光刻机的最佳焦距的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：提供具有测试标记的掩膜板，所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记；将所述测试标记转移到基底上；测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值；找出最小的套刻偏移量值，则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。 【当前权利人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号; 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资); 有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J; 91320214739444443B 【引证次数】7.0 【被引证次数】4 【他引次数】7.0 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】4

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