【摘要】本实用新型涉及一种输送装置，尤其涉及一种PBT原料输送装置，主要用于将PBT母料输送到原料仓中。它包括工字梁(1)、小车(2)和吊钩(3)，所述工字梁(1)的下端为下梁(1.1)，所述下梁(1.1)上设有轨道，所述小车(2)包括支架
【摘要】 本发明提供了一种光掩膜层及其形成方法，包括步骤：提供半导体基底，其包括衬底，及位于衬底上的待刻蚀膜层；在所述待刻蚀膜层上形成全反膜，所述全反膜的上表面具体有全反膜；在所述全反膜上形成光刻胶层，所述全反膜朝向光刻胶层的表面为透射面，所述全反膜朝向待刻蚀膜层的表面为反射面。本发明提高光掩膜层的曝光效果。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201010188921.7 【申请日】2010-05-25 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102262351A 【公开公告日】2011-11-30 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN102262351B 【授权公告日】2013-01-23 【授权公告年份】2013.0 【IPC分类号】G03F1/14 【发明人】卜维亮; 李健; 张炳一 【主权项内容】一种光掩膜层的形成方法，其特征在于，包括步骤：提供半导体基底，其包括衬底，及位于衬底上的待刻蚀膜层；在所述待刻蚀膜层上形成全反膜，所述全反膜的上表面具体有全反膜；在所述全反膜上形成光刻胶层，所述全反膜朝向光刻胶层的表面为透射面，所述全反膜朝向待刻蚀膜层的表面为反射面。 【当前权利人】无锡迪思微电子有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-6 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资); 有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J; 91320214739444443B 【引证次数】5.0 【被引证次数】2 【他引次数】5.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】2
未经允许不得转载：http://www.zhongzhencnc.com/1781964465.html
