【摘要】1.名称：面料(15)；2.用途：用于制作服装；3.设计要点：色彩与图案的结合；4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图；5.本外观设计的产品为单元图案四方连续而无限定边界的平面产品，省略其它视图；6.请求保护的外观设计包含色彩。【
【摘要】 本发明实施例公开了一种硅片的返工处理方法，包括以下步骤：1、清除掉硅片上的SiNx薄膜；2、采用平板式PECVD装置对硅片重新进行SiNx薄膜沉淀；3、对SiNx薄膜沉淀完成后的硅片进行丝网印刷和烧结，然后进行电性能测试。本发明实施例提供的硅片的返工处理方法中，将不合格的硅片上的SiNx薄膜清除掉，采用平板式PECVD装置对硅片重新进行薄膜沉淀，由于采用平板式PECVD装置进行薄膜沉淀时，NH3产生的等离子体不会直接与硅片接触，在对洗掉SiNx的不合格片进行PECVD时可以保护硅片表面不受到等离子体的二次轰击，减少了对硅片表面的伤害，提高了硅片表面的质量，提高了硅片的质量。 【专利类型】发明申请 【申请人】江阴浚鑫科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214443 江苏省江阴市申港镇镇澄路1011号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201010571367.0 【申请日】2010-12-02 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102185015A 【公开公告日】2011-09-14 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】H01L31/18; H01L21/306 【发明人】孙林杰; 孙伟; 钱明星; 麻晓园; 韩少鹏 【主权项内容】一种硅片的返工处理方法，其特征在于，包括以下步骤：1)、清除掉所述硅片上的SiNx薄膜；2)、采用平板式PECVD装置对所述硅片重新进行SiNx薄膜沉淀；3)、对SiNx薄膜沉淀完成后的硅片进行丝网印刷和烧结，然后进行电性能测试。 【当前权利人】江阴浚鑫科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省江阴市申港镇镇澄路1011号 【引证次数】3.0 【被引证次数】13 【他引次数】3.0 【被他引次数】13.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】13
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