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一种硅片手指印去除方法及清洗方法专利

时间:2026-06-20    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种硅片手指印去除方法,包括步骤:1)采用纯水对硅片进行超声清洗;2)用丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡;3)挥发硅片表面的丙酮和酒精的混合溶液。本发明通过采用具有挥发性的丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡,使有机溶剂和有机脂类充分互溶,然后通过挥发掉丙酮和酒精的混合溶液,则可同时将互溶的有机脂带走,使得去除手指印的硅片效率提高0.18%。本发明在不影响正常工艺稳定和不增加工艺时间的基础上,最大限度地去除手指印,从而提高硅太阳电池的电性能,提高硅太阳电池的生产效率,并极大地降低色差片的比例。本发明还公开了包括上述硅片手指印去除方法步骤的硅片的清洗方法。 【专利类型】发明申请 【申请人】江阴浚鑫科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214443 江苏省江阴市申港镇镇澄路1011号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201010571035.2 【申请日】2010-12-02 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102185013A 【公开公告日】2011-09-14 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】H01L31/18; B08B3/08 【发明人】王守志; 殷立明; 王竞争; 赵静; 祝耀华 【主权项内容】一种硅片手指印去除方法,其特征在于,包括步骤:1)采用纯水对硅片进行超声清洗;2)用丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡;3)挥发硅片表面的丙酮和酒精的混合溶液。 【当前权利人】江阴浚鑫科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省江阴市申港镇镇澄路1011号 【引证次数】4.0 【被引证次数】13 【他引次数】4.0 【被他引次数】13.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】13

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