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硅片抛光盘专利

时间:2026-06-16    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型是对电子材料例如硅片抛光盘的改进,其特征是抛光盘至少粘贴硅片部位厚度方向有多个孔径不大于2mm的排蜡孔。使得在蜡熔融粘片时,多余的蜡得以通过通孔排出,抛光盘底层蜡不会太厚,自流导致粘结蜡层均匀平整,从而保证了固定粘片的高度平整,极大提高了研磨抛光硅片的平整度,不平整度可以做到不大于4-8μm,满足了现代对抛光硅片高平整度要求,由此提高了所做芯片的电压一致性,简便解决了因蜡层厚度不易均匀导致的硅片不平整的问题。 【专利类型】实用新型 【申请人】江苏东光微电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214204 江苏省宜兴市新街百合工业园 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】宜兴市 【申请号】CN201020554467.8 【申请日】2010-09-24 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201881282U 【公开公告日】2011-06-29 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201881282U 【授权公告日】2011-06-29 【授权公告年份】2011.0 【发明人】严研; 储小飞 【主权项内容】硅片抛光盘,包括固定硅片的抛光盘,其特征在于抛光盘至少粘贴硅片部位厚度方向有多个孔径不大于2mm的排蜡通孔。 【当前权利人】江苏东晨电子科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市宜兴市新街街道百合工业园 【专利权人类型】股份有限公司(上市、自然人投资或控股) 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1

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