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太阳能电池的抗反射层及其制备方法专利

时间:2026-06-04    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种太阳能电池的抗反射层及其制备方法,所述抗反射层是以由设在太阳能电池受光面上的栅指电极之间表面上的众多微米结构突起,和设在微米结构突起上的众多纳米结构突起所构成的微纳米复合结构层为其主要特征,而其制备方法,是以用FIB聚焦离子束刻蚀加工,先刻蚀微米结构突起,继而在微米结构突起上再刻蚀纳米结构突起为其主要特征,具有所述抗反射层结构合理,抗反射能力强等特点,而所述制备方法,具有方法简便易控,制成品质量好等特点。 【专利类型】发明授权 【申请人】河海大学常州校区 【申请人类型】学校 【申请人地址】213022 江苏省常州市新北区晋陵北路200号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201010171808.8 【申请日】2010-05-14 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101866957B 【公开公告日】2011-12-21 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN101866957B 【授权公告日】2011-12-21 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L31/0232; H01L31/0236; H01L31/18; H01L31/054 【发明人】孙洪文 【主权项内容】1.一种太阳能电池的抗反射层,其特征在于,所述抗反射层(1),是由FIB聚焦离子束刻蚀加工的,设在太阳能电池受光面上的栅指电极(2)之间表面上的众多微米结构突起(1-1),和设在微米结构突起(1-1)上的众多纳米结构突起(1-2)所构成的。 【当前权利人】河海大学常州校区 【当前专利权人地址】江苏省常州市晋陵北路200号 【统一社会信用代码】12320400467289477N 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】3

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