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可消除白点的CMOS图像感测器专利

时间:2026-06-01    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 一种可消除白点的CMOS图像感测器, 其包括有 P-N接面感测区, 场氧化层、保护层及基底。基底上形成有保 护层覆盖在鸟嘴上, 形成自动对准罩幕, 使后续的植入或扩散制 造过程, 不会植入杂质(例如 : 硼、磷……等)在鸟嘴处, 避免P-N 接面感测区在鸟嘴处的破坏及缺陷, 减少漏电路径, 有效地消除 白点、亮线(暗点或暗线), 会提高成品合格率。 【专利类型】实用新型 【申请人】敦南科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北市松山区敦化南路1段25号12楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98207553.7 【申请日】1998-07-27 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2342468Y 【公开公告日】1999-10-06 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2342468Y 【授权公告日】1999-10-06 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】H01L31/0236; H01L31/0352 【发明人】李深地; 沈奇廷; 陈琪芬; 傅健益; 陈昭荣; 陈维忠 【主权项内容】1、一种可消除白点的CMOS图像感测器,包括有一基底、一P一N接 面感测区、至少一场氧化物及至少一保护层,其特征在于:基底上形成有P- N接面感测区,在P-N接面感测区至少一侧形成有场氧化物,场氧化物上形 成有保护层,保护层复盖氧化物的边缘鸟嘴处。 【当前权利人】敦南科技股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省台北市松山区敦化南路1段25号12楼

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    【摘要】1.本外观设计产品的名称:色织布(提花92)。2.本外观设计产品的用途:布。3.本外观设计的设计要点:设计要点在主视图。4.最能表明设计要点的图片或者照片:主视图。5.本外观设计为平面产品,其他视图无设计要点,省略其他视图。6.本外

    发布时间:2026-06-01

    【专利类型】外观设计【申请人】北京市华都酿酒食品工业公司【申请人类型】企业【申请人地址】115212北京市昌平县昌平镇西环路25号【申请人地区】中国【申请人城市】北京市【申请人区县】昌平区【申请号】CN98303327.7【申请日】1998

    发布时间:2026-06-01

    【摘要】1.本外观设计产品的名称:色织格布(64)。2.本外观设计产品的用途:布。3.本外观设计的设计要点:设计要点在主视图。4.最能表明设计要点的图片或者照片:主视图。5.本外观设计为平面产品,其他视图无设计要点,省略其他视图。6.本外观

    发布时间:2026-06-01

    【摘要】1.本外观设计产品的名称:坐垫(31);2.本外观设计产品的用途:用于置放在椅子、沙发等座位上;3.本外观设计产品的设计要点在主视图,主视图最能体现本外观设计产品的设计要点;本外观设计为薄型产品,后视图无设计要点故省略后视图。【专利

    发布时间:2026-06-01

    【摘要】1.产品名称:面料(20);2.产品用途:制作家纺;3.产品的设计要点为花色图案,最能反映设计要点的图为主视图;4.产品为平面产品,产品的其它视图无设计要点,故省略。【专利类型】外观设计【申请人】南通居梦莱家用纺织品有限公司【申请人

    发布时间:2026-06-01

    【摘要】1.本外观设计产品为人造毛皮(1016),主要用于制作床上用品。2.本外观设计产品为平面产品,其它视图无设计要点,省略其它视图;其设计要点在于产品的图案。3.本外观设计产品请求保护色彩。4.本外观设计产品为四方连续无限定边界。5.本

    发布时间:2026-06-01
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