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鞋底或鞋垫缓冲助力结构专利

时间:2026-05-29    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型涉及一种鞋底或鞋垫缓冲助力结构, 它是在鞋底或鞋垫上形成容置空间, 且于该容置空间上下各设 一磁性体, 该上下磁性体同极相对, 该上下磁性体之间具适当距 离而形成一缓冲空间, 令使用者以脚底踩踏该鞋底或鞋垫时, 由 于上下磁性体磁力作用, 不仅会形成一缓冲的舒适感, 而且脚底 提起时又会形成一股助力, 以达到提高行走舒适感及轻便性的 目的。。: 【专利类型】实用新型 【申请人】刘文忠 【申请人类型】个人 【申请人地址】中国台湾 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98206331.8 【申请日】1998-06-26 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2341433Y 【公开公告日】1999-10-06 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2341433Y 【授权公告日】1999-10-06 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】A43B7/32 【发明人】刘文忠 【主权项内容】1、一种鞋底或鞋垫缓冲助力结构,其特征在于:它是在鞋底或鞋垫上形 成容置空间,且于该容置空间上下各设一磁性体,上下磁性体同极相对,该上 下磁铁之间具适当距离而形成一缓冲空间。 【当前权利人】刘文忠 【当前专利权人地址】中国台湾 【被引证次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1.0

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