【摘要】 本实用新型提供了一种自清洁抗堵旋流式液体 分布喷头, 它主要是通过优化喷头结构和设置抗堵旋流内件及 自清洁元件来改善喷头抗堵性和液体分布效果, 从而使液体的 分布更均匀, 运行周期更长。其结构由连接段、第一缩径段、第 二直管段、第二缩径段、喉道和扩张段依次同轴串联连接而成, 流体以最经济合理的流速, 最大限度的避免生垢, 经过旋流内件 的整流, 以较大的喷射角均匀地分布, 同时, 整流后的流体, 带动 自清洁元件旋转刮除喷头内壁面上可能形成的结垢, 达到了最 好的抗堵效果。 【专利类型】实用新型 【申请人】田原宇 【申请人类型】个人 【申请人地址】257062山东省东营市泰安路149号 【申请人地区】中国 【申请人城市】东营市 【申请人区县】东营区 【申请号】CN98202151.8 【申请日】1998-03-13 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2319128Y 【公开公告日】1999-05-19 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2319128Y 【授权公告日】1999-05-19 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】B05B1/02 【发明人】田原宇; 卢洪刚; 王立英; 周树强 【主权项内容】1．自清洁抗堵旋流式液体分布喷头，由连接段(1)、第一缩径段(2)、 第二直管段(3)、第二缩径段(5)、喉道(7)和扩张段(8)依次同轴串联 连接而成，其特征是，在第二直管段(3)内安装抗堵旋流元件(4)，第二缩径 段(5)内设置自清洁元件(6)，自清洁元件的清扫段穿过喉道(7)伸到扩张 段(8)。 【当前权利人】田原宇 【当前专利权人地址】山东省东营市泰安路149号 【被引证次数】6.0 【被他引次数】6.0 【家族被引证次数】6.0

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