【摘要】本实用新型是分辨力自增掩模板，属于对光刻机 光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下 表面的掩模图形的形状和特征线宽，上表面刻蚀相应宽度和形 状相位光栅或图形，将产生离轴照明的相位光栅或图形与传统 掩模板结合为一体结构

【摘要】本实用新型涉及的是用于在圆形工件的外周进 行环形表面磨削加工的磨削装置。砂轮固定设置于机座上, 其附 近设置有可与砂轮配合工作的工件驱动和夹紧装置及砂轮修 整装置。其工件驱动和夹紧装置为在砂轮轴向剖面的两侧以对 称方式设置的一对,

【摘要】本实用新型涉及的是一种超声波测距装置。具有 一个含有超声波发射电路、超声波接收电路的测量电路、键盘 显示电路、控制电路以及CPU的主机, 所述的测距器还设有一 个副机, 所述的副机由超声波接收电路、超声波发射电路和分频 器所构成,

【摘要】该外观设计右视图与左视图对称, 省略右视图。 底面不经常看到, 省略仰视图。【专利类型】外观设计【申请人】卜静泰【申请人类型】个人【申请人地址】610041四川省成都市外南红牌楼肖家村二十组【申请人地区】中国【申请人城市】成都市【申

【摘要】本发明提供一种治疗癌症的混合反义药物, 它由 三种反义核苷等重量混合而成, 三种反义核苷的DNA序列分别 是 : 5’CAC CGA GGG GTC GAT GCA CT3; 5’AGG TAG CAT CTT CAG GGG AC

【摘要】1.左视图与右视图对称, 省略左视图。 2.省略仰视图。 3.该产品可多个连续。【专利类型】外观设计【申请人】国家体育运动委员会成都滑翔机制造厂【申请人类型】机关团体【申请人地址】610041四川省成都市南郊太平寺机场【申请人地区】