【摘要】一种全息光刻系统, 属于应用激光全息技术对微 细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束准直 后, 全息记录时光束经分束器后的两个光路产生的参考光束和 物光束在涂胶基片的光刻胶面处产生干涉条纹, 从而制得全息 掩模; 全息再
【摘要】 后视图与主视图对称,省略后视图。 【专利类型】外观设计 【申请人】王__惟 【申请人类型】个人 【申请人地址】610041四川省成都市武侯区大石西巷10幢5单元6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】武侯区 【申请号】CN98314899.6 【申请日】1998-09-18 【申请年份】1998 【公开公告号】CN3111464D 【公开公告日】1999-05-26 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN3111464D 【授权公告日】1999-05-26 【授权公告年份】1999.0 【发明人】王惟 【主权项内容】无 【当前权利人】王__惟 【当前专利权人地址】四川省成都市武侯区大石西巷10幢5单元6号
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