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多用途蚌形双室离子镀膜机专利

时间:2026-05-26    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀 膜机, 应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是, 两个镀膜 室分别由两部分组成, 一部分是固定不动的共用体, 它与真空机 组相联, 另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装 柱状弧源或柱状磁控溅射靶, 镀膜室壁上分别安装平面弧源或 平面磁控溅射靶。根据需要可单独开启一种镀膜源镀单层金属 膜或化合物膜, 也可以开启任何一对柱状源和平面源镀多层膜 或合金膜。 【专利类型】实用新型 【申请人】王福贞 【申请人类型】个人 【申请人地址】100027北京市朝阳区新源街07楼3门401 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98200971.2 【申请日】1998-02-09 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2324161Y 【公开公告日】1999-06-16 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2324161Y 【授权公告日】1999-06-16 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】C23C14/22 【发明人】王福贞 【主权项内容】 。1.一种多用途蚌形双室离子镀膜机,镀膜机的两个镀膜室均由两部分组成 ,一部分是固定不动的共用体,它与真空机组相联,另一部分是可以开合移动 的主体,也叫前门,从两个前门的顶部分别安装一个柱状状源,镀膜室的壁上 分别安装平面源,前门内还分别安装工件转架、进气系统及其它辅件。 【当前权利人】王福贞 【当前专利权人地址】北京市朝阳区新源街07楼3门401

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