【摘要】 本实用新型属于光学加工技术领域，涉及对研磨 抛光工具的一种改进。它由抛光体1、基座2、液体通孔3、 管接头4、真空泵5、球头6、驱动杆7、供液泵8、管接头9、 液体通孔10、正压微孔11、正压工作室12、抛光工作面13、 负压工作室14和负压微孔15组成，本实用新型能够有效快速 地进行光学元件表面的研磨和抛光；加工力可以控制和调节改 变，来满足加工过程所要求的材料最佳去除量；可用于常规光 学元件和超薄元件，高度轻量化元件和非球面元件的研磨和抛 光。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院长春光学精密机械研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】130022吉林省长春市人民大街140号 【申请人地区】中国 【申请人城市】长春市 【申请人区县】二道区 【申请号】CN98216976.0 【申请日】1998-07-08 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2352308Y 【公开公告日】1999-12-08 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2352308Y 【授权公告日】1999-12-08 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】B24B13/06; B24B13/00 【发明人】张忠玉; 余景池 【主权项内容】1、一种用于光学加工的真空自励研磨抛光工具，它包括基座2、抛光工作面4、 球头6、驱动杆7，其特征在于：在抛光体1的本体上分别制备有多个按一定规律分布 的正压微孔11与正压工作室12和负压微孔14与负压工作室15及抛光工作面13，抛光 体1的上表面与基座2固定连接为一体，在基座2上制备有与正、负压微孔11、14和正、 负工作室12、15相对应分布的液体通孔3和10，管接头4和9与基座2密封固定连接， 由管接头9内的通孔、液体通孔10、正压微孔11、正压工作室12组成正压液体通道， 并由供液泵8的输出端与管接头9连接，且供液泵8的液体给入正压液体通道，由管 接头4内的通孔、液体通孔13、负压微孔14、负压工作室15组成负压液体通道，并 由真空吸泵5的输入端与管接头4连接，且负压液体通道的液体给入真空吸泵5。 【当前权利人】中国科学院长春光学精密机械研究所 【当前专利权人地址】吉林省长春市人民大街140号 【被引证次数】6.0 【被他引次数】6.0 【家族被引证次数】6.0

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