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合成高硅丝光沸石的方法专利

时间:2026-05-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 合成SiO/Al2O3分子比为15~30的高硅丝光沸石, 通常需使用有机碱作为附加试剂。本发明不用任何有机碱作附加试剂, 以价廉易得的水玻璃、无机酸、无机碱、铝盐或铝酸盐等工业原料在阴离子表面活性剂存在下直接合成。按本发明制备的高硅丝光沸石, 具有生产成本低、环境无污染、工艺操作简单、产品质量稳定等优点, 制得的高硅丝光沸石可用于制造甲苯歧化与烷基转移反应的催化剂。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国石油化工总公司; 中国石油化工总公司上海石油化工研究院 【申请人类型】企业 【申请人地址】100029北京市朝阳区惠新东街甲6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98110736.2 【申请日】1998-03-30 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1230518A 【公开公告日】1999-10-06 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN1083399C 【授权公告日】2002-04-24 【授权公告年份】2002.0 【IPC分类号】C01B39/26; B01J29/18; B01J29/00; C01B39/00 【发明人】程文才; 杨德琴; 李华英 【主权项内容】1、一种合成高硅丝光沸石的方法,其SiO2/Al2O3分子比为15~30,以水玻璃、无 机酸、无机碱和铝盐或铝酸盐为原料,反应混和物中的分子比为:Na2O/Al2O3=1~10; SiO2/Al2O3=10~30;H2O/Al2O3=200~1000,晶化温度为120~240℃,完成晶化所需 的时间为6~360小时,晶化所得混合物经过滤、水洗、干燥制成高硅丝光沸石,其特征 在于在晶化过程中以阴离子表面活性剂为附加试剂,阴离子表面活性剂的加入量为最终丝 光沸石产物重量的0.1~10%。。 【当前权利人】中国石油化工集团公司; 中国石油化工总公司上海石油化工研究院 【当前专利权人地址】北京市朝阳区朝阳门北大街22号; 上海市浦东北路1599号 【引证次数】9.0 【被引证次数】27.0 【自引次数】2.0 【他引次数】7.0 【被自引次数】4.0 【被他引次数】23.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】29.0

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