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一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机专利

时间:2026-05-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型公开了一种柱状磁控溅射蚌形双室 真空镀膜机, 两个镀膜室由两部分组成, 一部分是固定不动的共 用体, 它与真空机组相联, 另一部分是可以开合移动的前门, 在两 个镀膜室的中央分别安装旋转磁控溅射柱状源和工件。属于表 面等离子体气相沉积领域, 镀膜机结构简单、成本低廉、生产效 率高, 是一种新型磁控溅射镀膜机。 【专利类型】实用新型 【申请人】王福贞 【申请人类型】个人 【申请人地址】100027北京市朝阳区新源街07楼3门401 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98200970.4 【申请日】1998-02-09 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2324162Y 【公开公告日】1999-06-16 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2324162Y 【授权公告日】1999-06-16 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】C23C14/35 【发明人】王福贞 【主权项内容】1.一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机,镀膜机的两个镀膜室由两部 分组成,一部分是固定不动的公用体,它与真空机组相联,另一部分是可以开 合移动的前门,两个镀膜室中央分别安装旋转磁控溅射柱状源和工件。 【当前权利人】王福贞 【当前专利权人地址】北京市朝阳区新源街07楼3门401 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0

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