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集成电路制造厂批次序列机器的制造控制方法专利

时间:2026-05-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 一种在制造工厂中操作批次序列机器的方法, 用 以最优化一通过一系列工序处理站的工作批量的工序, 该工序 处理站执行各种工序功能, 该方法包括下列步骤 : 收集用于通过 各工序处理站的批量工序的间隔时间(Ii, j); 形成一通过工序处理站的批量工序的减少时间矩阵; 决定一系列处理站组合的减少时间排列, 该处理站用以执行所需的工序任务; 及选择提供总工序时间的最大减少值的间隔时间组合。 【专利类型】发明申请 【申请人】世界先进积体电路股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98106297.0 【申请日】1998-04-13 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1232211A 【公开公告日】1999-10-20 【公开公告年份】1999 【IPC分类号】G06F9/38 【发明人】谢铭; 潘寅生; 曾鸿辉 【主权项内容】1.一种在一制造工厂中操作一批次序列机器的方法,用以在预防保养步 骤之后,最优化一通过一系列工序处理站的工作批量的工序,该工序处理站 执行各种工序功能,包括下列步骤: 在一制造工厂中提供一批次序列机器; 提供一具有数据存储作用的存储装置的数据处理系统; 提供一中央处理装置,以用来 (a)自该存储装置存取数据, (b)自一输入装置接收数据, (c)将数据供给该存储装置; 收集用于通过各工序处理站的批量工序的间隔时间(Ii, j); 形成一通过工序处理站的批量工序的减少时间矩阵; 决定一系列处理站组合的减少时间排列,该处理站用以执行所需的工序 任务;及 选择提供总工序时间的最大减少值的间隔时间组合。 【当前权利人】世界先进积体电路股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省新竹科学工业园区 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0

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    【摘要】右视图与左视图相同, 故省略右视图。【专利类型】外观设计【申请人】杨进得【申请人类型】个人【申请人地址】中国台湾【申请人地区】中国【申请人城市】台湾省【申请号】CN98301822.7【申请日】1998-04-14【申请年份】199

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    【专利类型】外观设计【申请人】神脑国际企业股份有限公司【申请人类型】企业【申请人地址】中国台湾【申请人地区】中国【申请人城市】台湾省【申请号】CN98326151.2【申请日】1998-10-15【申请年份】1998【公开公告号】CN311

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